| Nitrate d'hafnium | |||
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| Ions constitutifs du nitrate d'hafnium | |||
| Identification | |||
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| Nom systématique | nitrate d'hafnium(IV) | ||
| Synonymes |
nitrate d'hafnium |
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| No CAS | |||
| No ECHA | 100.035.927 | ||
| No CE | 239-536-7 | ||
| PubChem | 167292 | ||
| SMILES | |||
| InChI | |||
| Propriétés chimiques | |||
| Formule | Hf(NO3)4 | ||
| Masse molaire[1] | 426,51 ± 0,02 g/mol Hf 41,85 %, N 13,14 %, O 45,01 %, |
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| Précautions | |||
| SGH[2] | |||
  Danger |
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| Transport[2] | |||
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| Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire. | |||
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Le nitrate d'hafnium est un composé chimique de formule Hf(NO3)4. C'est un sel d'hafnium et d'acide nitrique HNO3. Il s'agit d'un solide légèrement volatil pouvant être sublimé à 110 °C sous 0,1 mmHg, ce qui permet de l'utiliser pour déposer des couches minces de dioxyde d'hafnium HfO2 par atomic layer deposition car il se décompose au-delà de 160 °C en HfO(NO3)2 puis en HfO2[3].
Il peut être obtenu par réaction de tétrachlorure d'hafnium HfCl4 avec du pentoxyde d'azote N2O5[4].
Notes et références
- Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
- (en) « Hafnium Nitrate », sur americanelements.com, American Elements (en) (consulté le ).
- (en) J. F. Conley Jr., Y. Ono, W. Zhuang, D. J. Tweet, W. Gao, S. K. Mohammed et R. Solanki, « Atomic Layer Deposition of Hafnium Oxide Using Anhydrous Hafnium Nitrate », Electrochemical and Solid-State Letters, vol. 5, no 5, , p. C57 (DOI 10.1149/1.1462875, lire en ligne).
- (en) Weiwei Zhuang, John F. Conley, Yoshi Ono, David R. Evans et R. Solanki, « Hafnium Nitrate Precursor Synthesis and HfO2 Thin Film Deposition », Integrated Ferroelectrics, vol. 48, no 1, , p. 3-12 (DOI 10.1080/10584580215449, S2CID 50290009, lire en ligne).
